背景
蓋下灌裝技術(shù)至少已發(fā)展了40年，它是一種使拋射劑在閥蓋下經(jīng)氣霧劑罐的一寸開口灌裝入罐的技術(shù)。它相對于經(jīng)閥灌裝技術(shù)，后者是在封閥以后將拋射劑經(jīng)閥灌裝進(jìn)罐的技術(shù)。
蓋下灌裝技術(shù)具有許多獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)，因此它已經(jīng)成為世界許多地區(qū)灌裝氣霧劑拋射劑的主要方法，主要優(yōu)點(diǎn)有：
1、適應(yīng)性強(qiáng)，無論哪個供應(yīng)商提供的閥門都可用于蓋下灌裝而無需特殊的接頭，即使在變換不同類型的閥門時亦不必更換拋射劑灌裝接頭。
2、不同閥門結(jié)構(gòu)都不會影響灌裝速度。
3、所用閥門不管其內(nèi)部結(jié)構(gòu)如何，在采用蓋下灌裝時，灌裝速度都高、均勻、能預(yù)期。
4、蓋下灌裝法所固有的高速灌裝特點(diǎn)使它需要的灌裝頭較少，加上蓋下灌裝將封閥和拋射劑灌裝結(jié)構(gòu)在一個工位，從而既減少了機(jī)器的維修保養(yǎng)，又節(jié)省了場地。
5、在大多數(shù)情況下帶噴頭的閥可直接用于蓋下灌裝，節(jié)省了裝噴頭機(jī)
6、在蓋下灌裝時不會因高速灌裝而損壞閥門，而經(jīng)閥灌裝法在拋射劑高速灌裝時可能出現(xiàn)墊座降低和吸管脫落等現(xiàn)象。
從技術(shù)角度來看，蓋下灌裝法有一個缺點(diǎn)，那就是與經(jīng)閥灌裝相比它在灌裝時損耗的拋射劑氣體較多。目前使用的以舊工藝制造的蓋下灌裝機(jī)在灌裝時每罐約損耗3.0ml氣體，而經(jīng)閥灌裝的氣體損耗在0.5-1.0ml之間，隨所用閥門而異。
大多數(shù)蓋下灌裝機(jī)使用者樂以接受這種微小的經(jīng)濟(jì)損失來換取蓋下灌裝法在其它方面節(jié)約成本以及對閥的廣泛適用性。
隨著對環(huán)境日益關(guān)注，工廠揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放受到嚴(yán)格管制。蓋下灌裝引起的拋射劑氣體的額外損耗使一些位于對環(huán)境特別敏感地區(qū)的工廠考慮放棄他們喜歡的蓋下灌裝法而改用經(jīng)閥灌裝法，以符合對工廠排放的管制。
現(xiàn)狀
作為對上述形勢的反應(yīng)，為完善蓋下灌裝法，減少氣體損耗，使之能適應(yīng)并生存于對工廠排放日趨嚴(yán)格的法規(guī)。在這方面業(yè)已取得顯著進(jìn)展，我們通過對操作過程的微小改變使拋射劑的損耗呈氣體狀而不是液體狀，從而完善了蓋下灌裝的流程。這種改變便隨著將封閥時間稍稍延遲，使正常損耗下環(huán)行空間中的液體落到容器中。實(shí)際減少的損耗取決于進(jìn)入拋射劑溫度、產(chǎn)品劑料的溫度以及劑料在容器中的高度。試驗(yàn)已經(jīng)證明，采用這種被稱為“低壓升蓋”新技術(shù)的現(xiàn)行機(jī)器灌裝時的損耗隨調(diào)節(jié)不同而不同，低0.5ml，高1.5ml。這已與經(jīng)閥灌裝法的損耗率十分接近，從而使這種十分優(yōu)良的技術(shù)得以繼續(xù)應(yīng)用。
前景
關(guān)注環(huán)境已成為全世界的趨勢，這使得氣霧劑配方師和市場商在開發(fā)對環(huán)境損害小并可以宣傳的產(chǎn)品。這種趨勢已使一些重要國家上市的氣霧劑產(chǎn)品由液態(tài)烴類拋射劑向氣體拋射劑轉(zhuǎn)化。應(yīng)用像二氧化碳這樣的替代性氣態(tài)拋射劑的一種方法是沖擊灌裝，將快速定量精確容積的高壓二氧化碳?xì)庖宰銐虻牧α窟M(jìn)入容器，使氣體立即進(jìn)入產(chǎn)品溶液。在將來，我們會看到由于可達(dá)到較快的灌裝速度，蓋下灌裝法在沖擊灌裝拋射劑時更為有效。
再則，我們預(yù)計氮和空氣或作為拋射劑系統(tǒng)的附屬品或作為單一拋射劑的應(yīng)用將會漸漸增多。對這些不溶性氣體來說蓋下灌裝法更遠(yuǎn)優(yōu)于經(jīng)閥灌裝法，通常將這些氣體灌裝到平衡壓力。蓋下灌裝法能使氣體一瞬間在容器內(nèi)達(dá)到平衡壓力，經(jīng)閥灌裝法則由于閥門的限制需要更長的時間，而且最終壓力不能達(dá)到相對的精確度。
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